光刻机 10 万多个零件有没有中国制造的零部件?

更新时间:2020-10-23 22:10 作者:罗马赌场

  先说一下光刻机有十万零件,这个说法不知道是哪里出来的,应该没有那么多。如果非要把每一颗螺丝,每一块垫片这些小东西都算上,勉强能有吧。

  再说有没有中国供应,至少我知道的零件是没有的,小东西包括螺丝啊,水管啊,包装袋。大东西包括镜头,机械臂,光源什么的。

  其实没有中国供应也正常,小东西像螺丝水管啥的人家在家门口都买了,大家伙像镜头光源这一类全球能供货的也就一两家。

  问题基本回答完了,说几句题外话。我真的特烦那些大V,什么都不懂在那里乱说,利用爱国情绪骗赞。谁不爱国啊?我也爱国!老一辈传承下来的是艰苦朴素脚踏实地,不是空喊口号!天天说别人能,咱也能!那你倒是说说咱们国家进展到哪一步了?差距在哪?克服困难点的可行性方案?我觉得真的是从事光刻机研发或者相关工作的人都能说出个一二三来的。知道什么就说什么,不知道咱也不乱说。

  做这个东西线.EUV 光罩stage的运动加速度有20g,过山车加速度大概4g。生产过程中如何保证在如此大惯性和加速度下光罩运动误差在几个纳米以内是非常难的

  2.EUV机台反射镜的精度,如果把镜面直径想成地球大小,平面镜表面误差只有头发丝那么细。加工出来的难度超级大。这还只是加工镜片,搭建光刻机很小小小小…的一环。

  同步辐射源的优点是可以产生高功率的EUV光,而且它对光学原件无碎屑污染(另外三种方案都会产生碎屑),可以长时间稳定地输出EUV光。但是,过于复杂和庞大的装置构造以及极其高昂的造价等都表明同步辐射源并不适用于HVM生产。这种源自同步加速器的装置,大小都是百米单位来算的,我国在上海的第三代同步辐射光源上海同步辐射装置(Shanghai Synchrotron Radiation Facility, SSRF)总投资12亿人民币,这种设备不太可能用来当光刻机的光源。

  LPP、DPP和LDP都是通过高能量束使靶材产生较高的温升,从而产生高温、高密度的等离子体并发射EUV光。虽然它们的形成方法有所差异,但却可以使用相同靶材,现在一般用的是锡(Sn)靶。

  LPP是以高强度的脉冲激光为驱动能源照射靶材,使靶材产生高温等离子体并辐射EUV光。其中,采用数十千瓦功率的激光从一圆孔进入打在液滴Sn靶上,产生的极紫外光通过多层介质膜反射镜反射汇聚在中心焦点(Intermediate Focus)处。

  为ASML提供光源的是Cymer,一家美国公司,不过已经被ASML收购了。目前走的是LPP路线。大概原理是在一个真空腔体中,有强大的二氧化碳激光,通过腔体,照射一束每秒被发射出几万滴的超纯锡液滴。当激光脉冲照射到锡液滴时,液滴会被加热成等离子体并产生 EUV 射线,反射镜收集器将该过程产生的光线反射到光刻机中。

  之前与ASML有合作的日企Gigaphoton(小松Komatsu的独资子公司),2002就展开了对EUV光源的研究,也是走LPP路线的。该公司是光刻机用准分子激光器光源的两大制造商之一,另一家就是Cymer。但随着2013年Cymer被ASML收购,Gigaphoton逐渐在竞争中处于下风(肯定是用自己亲儿子公司的产品方便了)。不过最近Gigaphoton表示将开发出新的光源部件,在ASML计划于2022年发布下一代EUV设备时夺回市场份额。

  上面那个回答里提到的氟代硼铍酸钾晶体(KBBF)主要是用来产生深紫外激光的,176nm波长,EUV光刻机需要的是极紫外光(10-14nm),ASML用的应该是是13.5nm波长。176和13.5差距还是很大的。

  首先摆明立场,我不是纯黑,只是作为制造业上,见过得太多,也希望分想给大家,提醒一下危机感。

  首先请允许我简单粗暴列举今年上海某公司的自主14nm浸液式光刻机。其中我曾感兴趣的,浸没液系统,该系统的作用,是在对硅晶片被紫外激光刻蚀后,利用系统制造的超纯水,通过流体系统,将硅片上的碎屑清洗干净。似乎工作原理和目的十分简单,但是这里还是需要很多技术指标和设备支持的,比如超纯水制备,水质指标,纯水流体输送和控制等。

  对于上述系统,是由某大学一个机械和流体相关的团队开发的,现该团队已成立公司成为区域高新技术企业。对于这个系统,我大致把其中的技术分为两方面:1.超纯水制备 2.流体输送与控制。我翻看了该公司已公布的产品信息,这样可以分析出,该团队具体做了什么工作。首先是一张作为宣传的项目交付图片,主要表现是一套庞大的管路系统;接着是相关传感器,超声波液体流速测量,和纯水电导率测控系统,显然这两样东西是和流体和控制有关,这也显示出了该团队的本领。那么,超纯水制备那方面又是怎么做的呢?

  十分巧合的是,本人之前从事的就是水质相关的工作,也是同纯水打过交道,所以还是有所了解。首先讲水质吧,这个东西包含了很多,温度、浊度、溶解氧、电导率、PH,还有总磷、氨氮、COD、VOC等等化学指标,还有大肠杆菌等生物指标。而纯水的主要特点就是,许多指标要为0或在标准范围内。纯水的制备过程,包括了一些基础的活性炭过滤,还有相关透膜,离子渗透柱等等结构和技术。到这里,就可以看到,这些东西,是单靠一个团队没法做到的,何况还是个和化学没关系的外行团队,所以,如果想达成这个设计,外采是必须的。这里可以补充说明一下,就制纯水技术来讲,相关的透膜、离子交换柱相关技术来讲,基本用的都是外国的(杜邦不只是个生产安全套的,它在透膜这方面做得很牛,而且超纯水这方面也是有业务,对接医药行业)。庆幸的是,这东西还没到被外国人卡脖子的地步。从事制造业的人都清楚,一个系统的集成,背后更是千千万万个部件供应商,供应商下面还有小供应商,就这样一环一环嵌套下去。

  最后,谈谈研发过程中还会遇见什么“受制于人”的情况吧。研究过程中,是理论和实践的结合,而实践是需要大量仿真和实际实验的,对于流体而言,人类却是太难以不准,它对于视觉是抽象的,其他器官更是无法感知,所以优秀的仿真软件是科研者的福音,而这类仿真软件,更多更好的是在外国人之手,就像matlab对国内高校停止服务引起的恐慌一样,因为这确实对研究造成了困难,而我们的步子还需尽力赶上,饭还要一步一步吃。

  相信只有技术人员一步一步脚踏实地,辈辈付出,我们才能更加完美,更加强壮。不要老想着弯道超车,基础不打牢,即使弯道领先,直道还是要被追回来,赛车场上,弯道要比直道少得多。我们要感谢,在科研,技术和生产相关岗位,各个普通人的艰辛努力,有他们才有更好的未来。

  先说结论,目前在光刻机上面没看到过,或者供应商都是第三方的,上面也没写这个parts哪里生产的。但是亲眼所见,在台湾组装的量测设备Yieldstar上见到过made in China的一个小散热风扇。

  至于原因,感觉就是毕竟在荷兰组装,欧洲的供应商足够了,有些很关键的部件比如镜头光源之类的确实也国内生产不了或者满足不了需求,有些难度不高的部件比如电路板之类的因为中国太远加上需求量也不大,不用考虑成本,欧洲供应商已经足够满足需求了,去年还出过某个供应商失火导致某个零件全球缺货。所以讲到最后还是经济因素,再说了,上海还要求特斯拉的零配件国产化呢,人家荷兰希望国内企业阿斯麦国产化也没啥毛病吧。

  荷兰的ASML公司在光刻机领域是当之无愧的老大,最新的极紫外光EUV光刻机能够生产7纳米的CPU,世界上只此一家别无分号,市场份额100%。

  现在世界主流处理器都开始步入7纳米行列,想生产7纳米芯片就必须有ASML的EUV光刻机。

  但是你拿一亿美金来买,得看ASLM的脸色,我不高兴肯定不会卖给你!中国差钱吗?18年我们拿1.2亿美金去买(也就是北京二环内的几套房子钱),两年过去了,毛都没看到,到是台湾已经拿下了十几台。

  有人这样形容光刻机:这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。

  所以说尖端光刻机的制造没你想得那么简单,这根本就不是一国之力可为的,荷兰不行,美国同样不行!

  在一台尖端光刻机上你会看到全世界各国顶尖技术的荟萃:德国提供蔡司镜头技术设备,日本提供特殊复合材料,瑞典的工业精密机床技术,美国提供控制软件、电源等等等等,任何一国都不具备光刻机所要求的全部顶尖技术。

  世界上每一个国家都不能依靠自己制造出先进的光刻机,现在的高端光刻机是许多个国家共同合作的结果,可惜中国不在这个集体内。

  靠喊爱国主义,民族主义,解决不了真正实际问题,那都是一堆空话。芯片设计软件是英国的,光刻机是荷兰的,这些基本上是国内无法获取的,这就是科技实力的差距,工业基础的差距!

  光刻机集成了十万多个零件,有很多都是全世界的顶尖技术,每一项都是被国外垄断的技术。这并是荷兰的独家技术,而是美德英日瑞等好几个国家共同研发出来的,涉及好几个大科学领域。

  今天即使把ASML的技术人员、专家聘请到中国来,甚至给我们样机,随便拆,给我们设计图纸,给我们工具,我们同样造不出来。美国的电源,瑞典的轴承,德国的镜头哪弄去?我们的工业基础太薄弱了!

  所以从上面的介绍,大家应该清楚了我们目前的处境,一个懂一些菜谱的厨师,没有好的食材,没有好的炊具,想做出上等佳肴来,太难了。

  从今天起我们要扎扎实实地培养自己的科技人才,走自己的科技发展道路,彻底丢掉造不如买的思想,彻底放弃一切幻想!

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  在中国媒体上,人类工业皇冠上的明珠有不少,从最早的发动机到发动机的刚才,后来逐渐又有了超级计算机、圆珠笔珠、高铁的螺栓等等等等……一直到这些年出现的这个光刻机。

  这些东西基本都是人类工业发展到现在最顶尖的存在,赞美这些,并以此来鞭策自己没有任何问题,而且,还需要鞭策的再狠一些才好。

  就用这个芯片来说,芯片的确是现在工业不可或缺的东西,但是7纳米的芯片是用在什么地方上的?超级计算机还是航空航天?是航母还是四代战斗机?

  有人用摩尔定律来说这个问题,其实在十年前摩尔定律就已经有些不能解释问题了,到了五年前,摩尔定律已经开始失效,这个是摩尔自己说的,现在这些尖端的研发,并不是和二三十年前那样,那时的研发一个是占领新市场,一个是出于对冷战对手的恐惧,和渴望打败对手的需要。

  就用华为来说,P20一样使用现在所有的APP,但是P20现在多少钱,P40呢?多出来的这些功能是能让你的APP飞起来还是让你的买单速度更快?至于照相功能,说实话,照相功能用的最多的就是女人,可是女人有几个关心这些相机功能参数的,人家是需要开美颜的好不好!

  但是这些东西用上了,就会有增加售价的借口,于是一年年的,把各种其实并不怎么需要的东西卖出一个好价钱,就把这些东西宣传的天花乱坠。

  比如5G,这个的主要作用是手机打电线G的都超出运用需求了,5G有必要么?但是加了5G,立马就能涨一千块钱,干嘛不加?

  现在美国对中国搞制裁,限制芯片的出口,虽然现在是对华为,而且步步高的老板是美国人,应该不会被限制,可就国家层面上来说,这个必须是要打死对方的念头,不然以后什么都不用做了。

  现在很多人唱赞歌给芯片,给光刻机,起核心真的是想鞭策国家在这个方面发展么?

  就和看了《八佰》后高喊爱国一样,对着国旗热泪盈眶一样,他们爱的国是哪个国?让他们热泪盈眶的旗子是那面旗子?

  虽然他们说的是抗日烈士不容抹灭,其实他们不想抹灭的是什么,自己不知道么?

  虽然他们说的是技术不行,说中国要知道谦虚好学,可他们的这个谦虚好学不就是让中国人赶紧跪下来么乞求美国人不要制裁自己么???

  就这么说吧,芯片这个东西线纳米的芯片,真的是离开了它,中国的工业体系一样照常发展,反而是西方那些吃芯片饭的企业看看,他们真的还能照常发展?除了中国的企业需求带给他们的利润,他们那什么来投入到新的研发中去???

  一,这世界离开了谁都照样转,不要以为中国有多牛,其实离开了中国,别的国家该干啥还是干啥!

  我好奇唉,既然如此,离开了谁都照样转,中国怎么就离开了这荷兰的光刻机,天都要塌了

  二,劝我踏实一些,不要好高骛远,中国离不开这些高科技的,不要以为离开了这些高科技,中国一点都不会受影响?

  我又好奇了,现在是别人不让中国用,不是中国自己不用,真不知道咋想的?是不是非要立即跪下去才可以?

  还有什么说中国市场没那么重要的,我真是不知道该说啥了,是,的确只占百分之二十多份额,可问题是,失去了这二成份额,然后还要再失去这个稳定的制造基地,迁移到别国去先考虑成本会不会增加,此外还有产量能不能稳定,能不能提高?两项一对照,失去的利润何止是二成?现在有几个企业的利润能有二成?信不信董事会能把CEO撕碎了不?

  而且别人都用着安全的名义禁止中国进口了,中国要是反击,不允许这些技术在中国销售,至于法律,抖音违反了美国的那条法律了?还不是说搞就搞?

  哪怕这台光刻机连颗螺丝钉都没有中国产的,但事实上这台光刻机现在的地位就完全是因为中国才有的。

  不要认为电脑和手机现在这么普及,所以就认为这东西很没有技术含量,其实这些东西出现的最早时间里,根本就不是普通人能玩的起的,就是现在,三千以下的手机还是市场份额的大头,人们对手机的更多追求还不是打游戏,也不是照相,更多的只是打电话,社交媒体和移动支付,这几个基本功能来说,几年前的CPU都完全可以满足使用,一些老年机的CPU就是三四年前的型号。

  中国的光刻机并不是不能满足这些生产的需要,只是因为市场需求不足,利润不足,所以完全靠政府补贴才能活着。

  而一个不可否认的事实就是,在人类技术最高端最集中的军事领域里面,芯片都是十年前的型号(包括美军都是如此),而国产军事装备的芯片基本都是国产的,在航天领域内更是如此。可靠性比性能更重要。

  现在是因为中国的产业整合能力让手机和个人电脑的普及成为了现实,没有中国,现在手机和个人电脑就还是少数人的玩意,缺乏中国品牌竞争的欧美市场,功能机依然有着很大的市场份额,而几年前的老款手机依然存在(这个和谷歌以及苹果的云服务有关,所以他们的手机并不需要多高的参数就能达到基本的使用需求)。

  说了这么多,意思其实很简单,就是没有中国,虽然他们依然会有这个技术,可是不会有这么大的产能,不会有这样多的需求,只是因为中国的整合能力,所以才让这个皇冠上的明珠成为了能进入寻常百姓家的东西,才会让认知道这玩意和我们的生活关联多紧密。

  如果某一个政府宣布禁止这些公司的产品使用在中国的产品上,那么我们的产品和商品就会更趋于理智,其实现在的大部分软件,使用三年前的芯片幸好一样可以玩的溜,我的电脑用了四年了,不喜欢打游戏,所以使用没有任何的问题,手机是华为畅享9PIUE,微信支付宝没有任何的难度。

  只是商家趋利,新型号的代表更多的利润,所以才会采用新的型号,可要是没有了,又不是说旧型号玩不了……

  反而因为只能使用国产的芯片,国产芯片厂商的利润才能通过市场行为得到补充,形成良性的循环,他们才算是真的生存下来了。

  等国产的芯片厂商和设备制造商有了足够的利润,这事也就是那么回事了,一个商业行为而已,美国能要求抖音无条件的把自己的产品低价卖给美国公司,难道别人就不能做么?

  我们现在的数量不足,可问题是我们依然有华为中兴这样的企业存在,美国多番巧取豪夺也没抢过去啊!

  其实芯片这事就和这两天剑桥要林郑月娥反对国安法,不然就要剥夺她的头衔一样,他们的这个头衔对林郑月娥来说就是个锦上添花的事情,没有了也就没有了,反而因为林郑月娥自己主动放弃了,让剑桥方面很受伤……他们的这个所谓头衔其实根本就没有他们自己想的那么重要。

  芯片也是,这个东西现在被说的这么炫,其实就是因为中国现在生产不了,就和圆珠笔珠子,就和超级计算机这些没什么区别,只要是中国不能造的,一定是皇冠上的明珠。

  事实却是没有中国的全产业整合,这东西就是少数人的玩具,现在因为中国的整合成了大部分人的玩具,就觉得世界离不开自己了……问题搞反了吧?

  美国对我们禁售也不代表我们一点都得不到,而是我们不能大批量得到,产业受到限制。

  像光刻机十万个零部件这个说法不知道从哪里来的、是怎么统计的、是不是连螺丝也一起算上(M3、M4、M5这种不同规格的也算不同的类型,平头的与锥形的也算不同的类型?标准的与加长的也算不同的类型?)?

  在我从事的锂电新能源行业,复杂点设备如激光切割机、卷绕机、涂布机之类零部件如果将螺丝这类也算上数量上是轻松过完的;小到各种气管、垫片、接头。。。,大到各种机器人、镜头、轴卡、机器人、泵源、光路。。。

  同时在我刚进入这个行业的时候也有不少人用类似的说法诸如涂布机很难、卷绕级很难、结构太复杂等等,在我深入了解这个行业、参与这个行业、部分引领这个行业的时候,感觉也不是传说中的那么触不可及;现在的卷绕机、涂布机、部分细化领域视觉检测做的比国外产品还好;

  你说这些东西我们能造吗?大部分肯定是能造、一些造出来比国外的质量还要好,但是这与光刻机厂家会不会采购我们的零部件是两个概念;

  1、宣传口、大V不是做技术出身。或脱离技术很久了、他们的观点都是来源于网上;

  3、在光刻机领域我们还停留在盲人摸象阶段,大部分没用过光刻机、甚至没见过光刻机;都是处于定性分析阶段、离定量分析门槛边都还没摸到;

  也就意味着我们所有的讨论和观点都是在停留在空中楼阁;如果哪天大家对光刻机的讨论进行到——采用这种模式来控制光路稳定性会提升XX%、用那种模式驱动轴卡精度会下降YY%这种层次,那离成功已经不远了;

  PS:曾经参与研发一款六轴机器人(1200臂展、5KG负载),从运动学构建到软体编写、多台机器人协作、奇异点控制、本体铸造、机械加工、电控测试.....全部公司自己做,成品出来后实际效果是超越ABB同类型机器人;在这个项目做完之后你会发现网上那些宣传ABB、KUKA之类重复定位精度高说的没错,但不是网上说的那么神乎其神、高不可攀;他们的方法也不是最好的;

  要知道,一台EUV光刻机重达180吨,整机零部件加起来超过了10万件,90%的零部件都依赖进口。就目前为止,阿斯麦的前17大供应商主要集中在欧洲、美国、日本以及中国台湾,其中美国就占了9家、台湾占了4家、日本占了3家、德国占了1家。就比如光路系统来自德国蔡司公司、光源来自于美国Cymer、计量设备来自美国是德科技等。可以说,阿斯麦能有今天的成就,靠的绝非一己之能,而是集百家之长。就算如此,由于EUV光刻机太复杂,目前全球能造出来的就只有阿斯麦。在EUV光刻机领域,阿斯麦的市占率是100%,独此一家。

  而且由于《瓦森纳协定》的限制,就算我们突破了技术,能够制造EUV光刻机,

  三个步骤。在这里简单的给大家说说一块芯片到底是怎么制造出来的。首先将高纯度(99.999999999%)的单晶硅锭切割成不到一毫米厚的圆片,经过研磨抛光清洗之后做成硅晶圆。接着经过材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序,然后进行后续的封装、测试等才能得到一个成品

  光刻和刻蚀是非常重要的两个步骤。这两个步骤可以简单理解为在晶圆上刻出需要的电路图。在芯片制造中,刻蚀难度略低于光刻。到目前为止,中国在光刻部分还落后于世界主流,而刻蚀却是达到了一流水准

  光刻机是做什么的?他是用来在拇指指甲大小的芯片上建造一座电路城市。因为光刻机使用到了光源技术,对准技术等最为顶尖的工业技术,即便是给了图纸,没有合格的配件一样也是白搭。而美国就向他们提供了优秀的对准技术,德国则将自己看家的蔡司镜头的顶尖水平贡献了出来,这些顶尖技术目前我国还不具备。想进口这些零件也是不行的,非常高精尖的光刻机组成部件材料针对咱们国家是禁运的,这就意味着缺少重要部件的话除非自己研究出来。

  为什么光刻机这么重要?我们简单说下芯片制造过程,主要有,图纸设计、晶片制作、封装和测试四个主要步骤。其中最复杂的就是晶片制作了。晶体片制作主要分为,硅锭的制作、切片成晶片、涂膜光刻蚀刻、掺加杂质、晶圆测试封装。芯片的原料是晶圆,晶圆的成分是硅,硅是由石英沙提炼出来的,晶圆便是硅元素加以纯化,接着是将些纯硅制成硅晶棒,成为制造集成电路的石英半导体的材料。制作完成后,将其切片成芯片制作具体需要的晶圆。晶圆越薄,生产难度就越大,主要是对工艺的要求越高。晶圆涂膜晶圆涂膜能抵抗氧化以及耐温能力,其材料为光阻的一种,晶圆光刻、蚀刻该过程使用了对紫外光敏感的化学物质,即遇紫外光则变软,通过控制遮光物的位置可以得到芯片的外形,在硅晶片涂上光致抗蚀剂,使得其遇紫外光就会溶解,可以使用第一份遮光物,使得紫外光直射的部分被溶解,这溶解部分可用溶剂将其冲走。剩下部分就与遮光物的形状一样了。这样就得到所需要的二氧化硅层。

  将晶圆中植入离子,生成相应的P、N类半导体,具体工艺是是从硅片上暴露的区域开始,放入化学离子混合液中。这一工艺将改变掺杂区的导电方式,使每个晶体管可以通、断、或携带数据。简单的芯片可以只用一层,但复杂的芯片通常有很多层,这时候将这一流程不断的重复,不同层可通过开启窗口连接起来。复杂的芯片可能需要多个二氧化硅层,这需要通过重复光刻以及上面流程来实现,形成一个立体的结构。

  经过上面的几道工艺之后,晶圆上形成了一个个格状的晶粒。通过针测的方式对每个晶粒进行电气特性检测。一般每个芯片拥有的晶粒数量都很多,组织一次针测试模式是非常复杂的过程,这要求在生产的时候尽量是同等芯片规格构造的型号大批量生产的,数量越大,成本就会越低。这就是大体的芯片制造过程,其中在涂膜光刻蚀刻这个环节当中就需要光刻机的参与,没有光刻机这个环节无法进行。

  光刻机需要零件还需要很多试剂,这些顶尖技术在国内目前仍不具备。我们的路任重而道远。中芯加油,华为加油!

  让我们看一则旧闻:服务于美军激光武器开发的APC(先进光学晶体)公司宣布终于突破中国的技术封锁,掌握了氟代硼铍酸钾晶体(KBBF)工艺。

  当然了,这个所谓的突破,无论是质量还是产量还是相关的配套,都和中国差的很远。一句话:完全没有替代中国货的可能。

  EUV光刻机,需要一个波长明显小于200nm的高性能激光光源。而受限于目前的技术不能直接产生这样的波长,需要这个晶体对激光器原始频率进行倍频才行。显然,这个晶体是非常关键的,没有他,就没有光源,EUV光刻机就是一堆废铁。而目前的EUV光刻机的光学效率只有10%不到(光源发射的光线%能照射到芯片上),所以你想换个性能更低的晶体也是行不通的(光源功率再低很可能就直接曝光失败了)。而这个晶体有个非常“完美”的特性:由于这晶体非常容易解理,放着不用也会在不长的时间内崩解掉。所以啊,EUV光刻机对中国所谓的禁运。。。。。做做样子而已。

  “EUV用的是金属气体电离的超辐射激光,跟倍频晶体没关系。 什么倍频晶体,也到不了EUV的几十纳米的波段。”

  是不是觉得打出来的什么波长就能直接用了,EUV的7nm就是打出来的7nm波长的紫外光?

  要是想要多少波长直接去找光源要的话,浸润,透镜阵列,光路,这都特么闹啥呢,骗钱呢啊。

  最后还得换着姿势多次曝光。而多次曝光麻烦到死了。缩短一点波长就少一点麻烦


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